Si3N4 és un nou tipus de material ceràmic d'estructura d'alta temperatura amb excel·lents propietats químiques, bona resistència al xoc tèrmic, fluïdesa a baixa temperatura, no humecta a una varietat de metalls fosos no fèrrics, alta duresa, autolubricació, s'ha utilitzat àmpliament en eines de tall, metal·lúrgia, aviació, química i altres indústries.

El nitrur de silici també es pot aplicar a cèl·lules solars de pel·lícula fina.Després que la pel·lícula de nitrur de silici es xapa pel mètode PECVD, no només es pot reduir la reflexió de la llum incident, sinó que també, en el procés de deposició de la pel·lícula de nitrur de silici, els àtoms d'hidrogen del producte de reacció entren a la pel·lícula de nitrur de silici i el hòstia de silici per passivar El paper dels defectes.