Si3N4 estas nova speco de alttemperatura strukturo ceramika materialo kun bonegaj kemiaj propraĵoj, bona termika ŝoko rezisto, malalta temperaturo rampo, ne-malsekiga al diversaj ne-feraj metalaj fandado, alta malmoleco, mem-lubrikado, estis vaste uzata en tranĉiloj, metalurgio, aviado, kemia kaj aliaj industrioj.

Silicia nitruro ankaŭ povas esti aplikita al maldikfilmaj sunĉeloj.Post kiam la silicio-nitruda filmo estas tegita per la PECVD-metodo, ne nur la reflektado de incidenta lumo povas esti reduktita, sed ankaŭ, en la demetprocezo de la silicio-nitruda filmo, la hidrogenaj atomoj de la reagprodukto eniras la silician nitruran filmon kaj la silicio oblato pasivigi La rolo de difektoj.