Si3N4 é un novo tipo de material cerámico de estrutura de alta temperatura con excelentes propiedades químicas, boa resistencia ao choque térmico, fluencia a baixa temperatura, non humectante a unha variedade de fusión de metais non férreos, alta dureza, autolubricación, foi amplamente utilizado en ferramentas de corte, metalurxia, aviación, química e outras industrias.

O nitruro de silicio tamén se pode aplicar a células solares de película fina.Despois de que a película de nitruro de silicio sexa chapada polo método PECVD, non só se pode reducir a reflexión da luz incidente, senón que tamén, no proceso de deposición da película de nitruro de silicio, os átomos de hidróxeno do produto de reacción entran na película de nitruro de silicio e o oblea de silicio para pasivar O papel dos defectos.