Si3N4 उत्कृष्ट रासायनिक गुणों के साथ उच्च तापमान संरचना सिरेमिक सामग्री का एक नया प्रकार है, अच्छा थर्मल शॉक प्रतिरोध, कम तापमान रेंगना, गैर-लौह धातु के पिघलने के लिए गैर-गीलापन, उच्च कठोरता, आत्म-स्नेहन, का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है काटने के उपकरण, धातु विज्ञान, विमानन, रसायन और अन्य उद्योग।

सिलिकॉन नाइट्राइड को पतली-फिल्म सौर कोशिकाओं पर भी लगाया जा सकता है।पीईसीवीडी विधि द्वारा सिलिकॉन नाइट्राइड फिल्म चढ़ाए जाने के बाद, न केवल घटना प्रकाश का प्रतिबिंब कम किया जा सकता है, बल्कि सिलिकॉन नाइट्राइड फिल्म की जमा प्रक्रिया में, प्रतिक्रिया उत्पाद के हाइड्रोजन परमाणु सिलिकॉन नाइट्राइड फिल्म में प्रवेश करते हैं और निष्क्रिय करने के लिए सिलिकॉन वेफर दोषों की भूमिका।