Si3N4 は、優れた化学的特性、優れた耐熱衝撃性、低温クリープ、さまざまな非鉄金属溶融物に対する非濡れ性、高硬度、自己潤滑性を備えた新しいタイプの高温構造セラミック材料であり、広く使用されています。切削工具、冶金、航空、化学、その他の産業。

窒化ケイ素は薄膜太陽電池にも応用できます。PECVD法により窒化シリコン膜をめっきした後は、入射光の反射を低減できるだけでなく、窒化シリコン膜の堆積工程において、反応生成物の水素原子が窒化シリコン膜中に侵入し、シリコンウェーハの不動態化における欠陥の役割。