1. එහි කුඩා ප්‍රමාණය සඳහා, SiO2 නැනෝපෝඩරයට ඉෙපොක්සි ෙරසින් සුව කිරීමේ ක්‍රියාවලියේදී දේශීය හැකිලීමෙන් සෑදෙන ක්ෂුද්‍ර ඉරිතැලීම් සහ සිදුරු ඵලදායී ලෙස පිරවීම, විඛාදන මාධ්‍යවල විසරණ මාර්ගය අඩු කිරීම සහ ආලේපනයේ ආවරණ සහ ආරක්ෂිත ක්‍රියාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කළ හැකිය;

2. එහි ඉහළ දෘඪතාව සඳහා, සිලිකා නැනෝ අංශු ඉෙපොක්සි ෙරසින්වල දෘඪතාව වැඩි කරයි, එමගින් යාන්ත්රික ගුණ වැඩි දියුණු කරයි.
මීට අමතරව, නැනෝ සිලිකන් ඔක්සයිඩ් අංශු සුදුසු ප්‍රමාණයක් එකතු කිරීමෙන් ඉෙපොක්සි ආලේපනයේ අතුරු මුහුණත් බන්ධන ශක්තිය වැඩි කළ හැකි අතර ආලේපනයේ සේවා කාලය දීර්ඝ කළ හැකිය.

නැනෝ සිලිකා යනු විශිෂ්ට තාපය හා ඔක්සිකරණ ප්රතිරෝධයක් සහිත අකාබනික ලෝහමය නොවන ද්රව්යයකි.එහි අණුක තත්ත්වය මූලික ව්‍යුහාත්මක ඒකකය ලෙස [SiO4] tetrahedron සහිත ත්‍රිමාන ජාල ව්‍යුහයකි.ඒවා අතර, ඔක්සිජන් සහ සිලිකන් පරමාණු සහසංයුජ බන්ධන මගින් සෘජුවම සම්බන්ධ වී ඇති අතර, ව්යුහය ශක්තිමත් බැවින් එය ස්ථාවර රසායනික ගුණ, විශිෂ්ට තාපය සහ කාලගුණ ප්රතිරෝධය ආදිය ඇත.

නැනෝ සිලිකන් ඩයොක්සයිඩ් ප්‍රධාන වශයෙන් ඉෙපොක්සි ආලේපනයෙහි ප්‍රති-විඛාදන පිරවුමේ කාර්යභාරය ඉටු කරයි.එක් අතකින්, nano SiO2 මගින් ඉෙපොක්සි ෙරසින් සුව කිරීමේ ක්‍රියාවලියේදී ජනනය වන ක්ෂුද්‍ර ඉරිතැලීම් සහ සිදුරු ඵලදායී ලෙස පුරවා විනිවිද යාමේ ප්‍රතිරෝධය වැඩි දියුණු කළ හැකිය;අනෙක් අතට, නැනෝ සිලිකා සහ ඉෙපොක්සි ෙරසින්වල ක්‍රියාකාරී කාණ්ඩවලට අවශෝෂණය හෝ ප්‍රතික්‍රියාව හරහා භෞතික/රසායනික හරස් සම්බන්ධක ලක්ෂ්‍ය සෑදිය හැකි අතර, Si—O—Si සහ Si—O—C බන්ධන අණුක දාමයට හඳුන්වා දී තුනක් සෑදිය හැක. -ආෙල්පන ඇලවීම වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා මාන ජාල ව්යුහය.මීට අමතරව, නැනෝ SiO2 හි ඉහළ දෘඪතාව, ආලේපනයේ ඇඳුම් ප්රතිරෝධය සැලකිය යුතු ලෙස වැඩිදියුණු කළ හැකි අතර, එමගින් ආලේපනයේ සේවා කාලය දිගු කරයි.