మా హైడ్రోఫోబిక్ SiO2 నానో పౌడర్ సేంద్రీయ హైబ్రిడైజేషన్ ద్వారా ప్రాసెస్ చేయబడుతుంది మరియు ఉత్పత్తి పద్ధతి ఆవిరి దశ.

ఒరిజినల్ హైడ్రోఫిలిక్ సిలికాలా కాకుండా, హైడ్రోఫోబిక్ ఫ్యూమ్డ్ సిలికాను నీటితో తడిపివేయలేరు.హైడ్రోఫోబిక్ ఫ్యూమ్డ్ సిలికా సాంద్రత నీటి కంటే ఎక్కువగా ఉన్నప్పటికీ, అవి నీటిపై తేలతాయి.ఫ్యూమ్డ్ సిలికా యొక్క ఉపరితల చికిత్స ద్వారా, దాని సాంకేతిక పనితీరును కొన్ని నిర్దిష్ట అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లలో ఆప్టిమైజ్ చేయవచ్చు, ఇది అనేక లిక్విడ్ పాలిమర్ సిస్టమ్‌ల యొక్క రియోలాజికల్ లక్షణాలను ప్రభావవంతంగా మెరుగుపరుస్తుంది, ముఖ్యంగా ఎపోక్సీ రెసిన్ సిస్టమ్‌లలో.

ఫ్యూమ్డ్ సిలికా అనేది అత్యంత ముఖ్యమైన హై-టెక్ అల్ట్రాఫైన్ అకర్బన కొత్త పదార్థాలలో ఒకటి.దాని చిన్న కణ పరిమాణం కారణంగా, ఇది పెద్ద నిర్దిష్ట ఉపరితల వైశాల్యం, బలమైన ఉపరితల శోషణ, అధిక రసాయన స్వచ్ఛత, మంచి వ్యాప్తి, ఉష్ణ నిరోధకత, విద్యుత్ నిరోధకత మొదలైనవి కలిగి ఉంది. ప్రత్యేక పనితీరు, దాని ఉన్నతమైన స్థిరత్వం, ఉపబలము, గట్టిపడటం మరియు థిక్సోట్రోపిని కలిగి ఉంటుంది. అనేక విభాగాలు మరియు రంగాలలో ప్రత్యేక లక్షణాలు, మరియు భర్తీ చేయలేని పాత్రను కలిగి ఉంది.వివిధ పరిశ్రమలలో సంకలితాలు, ఉత్ప్రేరక వాహకాలు, పెట్రోకెమికల్స్, రబ్బరు ఉపబల ఏజెంట్లు, ప్లాస్టిక్ ఫిల్లర్లు, ఇంక్ గట్టిపడేవారు, సాఫ్ట్ మెటల్ పాలిషింగ్ ఏజెంట్లు, ఇన్సులేటింగ్ మరియు హీట్ ఇన్సులేటింగ్ ఫిల్లర్లు, అధిక-స్థాయి రోజువారీ సౌందర్య సాధనాలు మరియు స్ప్రే మెటీరియల్స్ కోసం పూరకాలు మొదలైనవి.