सिलिकॉन डाइऑक्साइड नैनोपार्टिकल में उच्च छिद्र, बड़े विशिष्ट सतह क्षेत्र और कई सतह सक्रिय केंद्र होते हैं, इस प्रकार नैनो सिलिका में उत्प्रेरक और उत्प्रेरक समर्थन में संभावित अनुप्रयोग मूल्य होता है।

मिश्रित आक्साइड युक्त सिलिका नैनो बुनियादी कच्चे माल के रूप में SiO2 नैनोपाउडर का उपयोग करके तैयार किया जाता है।उत्प्रेरक वाहक के रूप में उपयोग किए जाने पर, सिलिकॉन ऑक्साइड नैनो कई संरचना-संवेदनशील प्रतिक्रियाओं के लिए अद्वितीय प्रतिक्रिया प्रदर्शन दिखाएगा।यह प्रतिक्रिया की उच्च उत्प्रेरक गतिविधि, अच्छी चयनात्मकता को दर्शाता है और प्रतिक्रिया के दौरान उत्प्रेरक गतिविधि को लंबे समय तक बनाए रखा जा सकता है।

शोधकर्ताओं ने इसोप्रोपानोल के निर्जलीकरण को उत्प्रेरित करने के लिए उत्प्रेरक समर्थन के रूप में ZrO2/SiO2 नैनो सामग्री का उपयोग किया।अध्ययन के परिणामों से पता चला है कि प्रतिक्रिया में कुछ उप-उत्पाद और उच्च उत्प्रेरक दक्षता है।सर्वोत्तम परिस्थितियों में चयनात्मकता 100% तक पहुंच सकती है।