99% کروی 20nm مسو نانو پاوډر BTA لیپت Cu نانو ذرات
99% کروی 20nm مسو نانو پاوډر BTA لیپت Cu نانو ذرات
د تولید ځانګړتیاوې
| د محصول نوم | مشخصات |
| د نانو مسو پوډر | MF: CuCAS شمیره: 7440-50-8بڼه: نسواري تور پوډر وړاندیز: وچ پوډر / لوند پوډر مورفولوژي: کروی د ذرې اندازه: 20nm پاکوالی: 99% برانډ: HW NANO MOQ: 100g بسته: په دوه ګونی ضد جامد کڅوړو کې، ډرمونه |
د SEM انځور، COA او MSDS د نانو مسو بریښنا د پیرودونکي حوالې لپاره شتون لري.
څرنګه چې د 20nm Cu مسو نانو پاؤډ خورا فعال دی، موږ د BTA کوټینګ کوو.که پیرودونکي د سطحې نورې درملنې ته اړتیا ولري پوښتنې ته ښه راغلاست ، مننه.
40nm، 99٪، کروی
70nm، 100nm، 200nm، 99.9٪، کروی
د مسو فرعي مایکرون اندازه او د مایکرون اندازه د مسو پاؤډ فلیکس / کروی ، پوښتنو ته ښه راغلاست
همدارنګه د الټرافین کیو پاؤډر لپاره، موږ لوند پوډر وړاندیز کوو چې د ډیونیز شوي اوبو ټاکلی مقدار لري.
د غوښتنلیکد نانو ذرات:
د دې ځانګړي فزیکي او کیمیاوي ملکیتونو له امله او د آپټیکس ، برقیاتو ، کاتالیسیس ، انټي باکتریا ، غوړ کولو ، پولیمر ډکولو او ترمیم برخو کې د دې پراخه غوښتنلیک له امله ، دې ته ډیره پاملرنه شوې.
د فلزي نانو غوړولو اضافه کول: د غوړ غوړ او غوړ لپاره د 0.1 ~ 0.6٪ اضافه کول ، د رګونو پروسې په جریان کې ، د رګونو جوړه سطح به د ځان غوړولو او ځان ترمیم کولو فلم رامینځته کړي ، کوم چې د پام وړ د رګونو ضد فعالیت ته وده ورکوي. رقابتي جوړه
د فلزي او غیر فلزي سطحي کنډک کوټینګ درملنه: د نانو المونیم ، مسو او نکل پوډر خورا فعال سطحونه لري او پوښونه د اکسیجن څخه پاک شرایطو لاندې د پوډر د خټکي نقطې لاندې تودوخې کې پلي کیدی شي.دا ټیکنالوژي د مایکرو الیکترونیک وسیلو په تولید کې کارول کیدی شي.
د لوړ موثریت کتلست: مسو او د هغې د الماس نانو پاوډونه د کتلست په توګه کارول کیږي، د لوړ موثریت او قوي انتخاب سره، او میتانول ته د کاربن ډای اکسایډ او هایدروجن په عکس العمل کې د کتلست په توګه کارول کیدی شي.
