100-200nm Titan Nitrid Pudder High Purity TiN fir Verkaf

Kuerz Beschreiwung:

TiN Nano Pudder kann an Nanocomposite haart Handwierksgeschir benotzt ginn, haarde Legierungen, héich-Temperatur Keramik konduktiv Materialien, Hëtzt-resistent a verschleißbeständeg Materialien, Dispersioun Verstäerkung Materialien, etc., a kann och an Brennstoff Zell Elektroden Katalysatoren, antistatic Material benotzt ginn a konduktiv Keramik.


  • Produit Detailer

    100-200nm Titan Nitrid Pudder

    Spezifizéierung:

    Code L572
    Numm Titan Nitrid Pudder
    Formel TiN
    CAS Nr. 7440-31-5
    Partikelgréisst 100-200 nm
    Rengheet 99,5%
    Crystal Typ Bal kugelfërmeg
    Ausgesinn Schwaarz
    Aner Gréisst 30-50 nm, 1-3 um
    Package 1 kg / Sak oder wéi néideg
    Potential Uwendungen Benotzt fir héich-Kraaft cermet Handwierksgeschir, Jet thrusters, Rakéiten an aner excellent strukturell Materialien;aus verschiddene Elektroden an aner Materialien gemaach.

    Beschreiwung:

    Uwendung vun Titan Nitrid Pudder:

    1. Keramik Industrie.Uwendt op strukturell Keramik déi héichstäerkt Keramik-Tools, Jet Propeller fabrizéiere kann.

    2. Zementéiert Karbiden.TIN bäizefügen kann d'Getreide verfeineren an d'Steifheet vu Metalle verbesseren.

    3. Plastik Feld.PET Verstäerkung.

    4. de Film benotzen.Neit Hëtztspigelmaterial.

    5. Solar huel Rouer.Méi effektiv benotzt Energie vun der Sonn fir Waasser z'erhëtzen.

    6. LCD Panel.kann Dréit ofgebrach an dropout verhënneren.

    7. Héich thermesch Stralungsbeschichtung.benotzt an héich Temperatur Uewen, militäresch Affären an sou op.

    8. Aner Applikatioun.

    Stockage Zoustand:

    Titan Nitride Powder (TiN) soll an zouene gespäichert ginn, vermeiden liicht, dréchen Plaz.Raumtemperatur Lagerung ass ok.

    SEM:

    TIN 100-200NM


  • virdrun:
  • Nächste:

  • Schéckt eis Äre Message:

    Schreift Äre Message hei a schéckt en un eis

    Schéckt eis Äre Message:

    Schreift Äre Message hei a schéckt en un eis