Chiny Nanodrut z tlenku glinu do powlekania separatora baterii, kształt Gamma Al2O3 przypominający igłę producenci i dostawcy |Hongwu

Alumina Nanowire do powlekania separatora baterii, Gamma Al2O3 w kształcie igły

Krótki opis:

Gamma tlenek glinu to biały puszysty proszek o równomiernym rozkładzie wielkości cząstek, wysokiej czystości i doskonałej dyspersji.Ma wysoką powierzchnię właściwą, wysoką obojętność temperaturową i wysoką aktywność.Jest to aktywowany tlenek glinu;porowaty;wysoka twardość i dobra stabilność wymiarowa.Może być szeroko stosowany we wzmacnianiu i hartowaniu różnych tworzyw sztucznych, gum, ceramiki, materiałów ogniotrwałych i innych produktów, zwłaszcza w celu poprawy zwartości, gładkości, odporności na zmęczenie w niskich i wysokich temperaturach, odporności na pękanie, odporności na pełzanie i produktów ceramicznych o wysokiej zawartości polimerów .Odporność na zużycie jest szczególnie godna uwagi.

Wyślij e-mail do nas

Szczegóły produktu

Nanodrut z tlenku glinu do powlekania separatora baterii

Specyfikacja:

Kod	N612
Nazwa	Nanodruty z tlenku glinu
Formuła	AL2O3
Nr CAS	1344-28-1
Rozmiar cząsteczki	20-30 nm
Czystość cząstek	99,99%
Kształt	jednowymiarowy (dostępny również sferyczny)
Wygląd	biały proszek
Pakiet	1 kg, 10 kg lub zgodnie z wymaganiami
Potencjalne aplikacje	materiały izolacyjne, ochrona włókien, materiał wzmocniony, materiał ścierny itp.

Opis:

Nanoprzewody z tlenku glinu / nanowłókno Al2O3 to rodzaj wysokowydajnego włókna nieorganicznego.

Dobra odporność na wysoką temperaturę, odporność na ścieranie i odporność na utlenianie,

Niska przewodność cieplna, niski współczynnik rozszerzalności cieplnej.

Dobra odporność na wstrząsy, wysoki moduł, wysoka plastyczność, wysoka wytrzymałość, wysoka wytrzymałość, wysoka izolacja i wysoka stała dielektryczna.

Może być szeroko stosowany w materiałach izolacyjnych, ochronie włókien, materiałach wzmocnionych itp.

Warunki przechowywania:

Nanoprzewody z tlenku glinu Proszki należy przechowywać w suchym, chłodnym środowisku, nie należy ich wystawiać na działanie powietrza, aby uniknąć utleniania przeciwpływowego i aglomeracji.

SEM i XRD: