Ցերիումի երկօքսիդի/CeO2 նանոմասնիկի կիրառում.

(1) Ցերիի երկօքսիդի նանոփոշի փայլեցման համար. Նանո ցերիումի օքսիդը ներկայումս ամենից հաճախ օգտագործվող հղկող նյութն է ապակու փայլեցման համար:Այն լայնորեն օգտագործվում է ապակու և օպտիկական բաղադրիչների ճշգրիտ մշակման մեջ և լայնորեն ուսումնասիրվել է:Այն, ինչ ազդում է փայլեցնող փոշու մեջ փայլեցնող էֆեկտի վրա, CeO2-ի մասնիկների չափն է, մաքրությունը և կարծրությունը:Հիմնական գործոնը մասնիկների չափն է։Մեծ մասնիկների չափը հարմար է սովորական օպտիկական բաղադրիչների և ակնոցի ոսպնյակների փայլեցման համար, մինչդեռ փոքր մասնիկների չափը հարմար է նուրբ օպտիկական ոսպնյակների բարձր արագությամբ փայլեցման համար:

Օրինակ՝ որպես ամենատարածված և հիմնական անօրգանական նյութ՝ ապակին լայնորեն օգտագործվում է գրիչ-նոթատետր համակարգչային կոշտ սկավառակի ապակե հիմքերում, թվային ֆոտոխցիկի չիպերում, գերճշգրիտ օպտիկական ոսպնյակների, օպտիկական պատուհանների և այլ օպտիկական բաղադրիչների, ինչպես նաև օպտիկական կապի բաղադրիչների մեջ, հարթ վահանակի էկրաններ և այլ առաջադեմ էլեկտրոնիկա:Գերազանց հարթ, ենթանանոմետրային կոշտությունը, հարթ ապակե մակերեսն առանց միկրո թերությունների դարձել է այս բարձր տեխնոլոգիական արտադրանքի արդյունավետության հետ կապված կարևոր գործոն:Քիմիական մեխանիկական փայլեցումը (CMP) սիլիցիումի վաֆլի մշակման և ինտեգրալային սխեմաների արտադրության մեջ նստեցման և փորագրման գործընթացի կարևոր մասն է:Այն օգտագործում է մեխանիկական փայլեցնող ազդեցությունը չափազանց նուրբ հղկող մասնիկների CMP լուծույթում և քիմիական կոռոզիոն ազդեցությունը:Օպտիկական սկավառակը բարձր հարթ մակերես է կազմում սիլիկոնային վաֆլի վրա, որի վրա ստեղծվել է շղթայի նախշը:Ներկայումս դա նոր տեխնոլոգիա է, որը կարող է ապահովել գլոբալ հարթեցում VLSI սխեմաների արտադրության գործընթացում:

(2) Նանո-ցերիումի երկօքսիդը, որն օգտագործվում է կատալիզատորի համար, օժտված է լավ օքսիդացման օքսիդացումով:Ցերիումի օքսիդի նանոփոշին ոչ միայն ունի թթվածնի պահպանման և թթվածնի ազատման եզակի գործառույթներ, այլ նաև հանդիսանում է հազվագյուտ հողային օքսիդների շարքի ամենաակտիվ օքսիդի կատալիզատորը:Հետևաբար, նանո ցերիան կարող է օգտագործվել որպես օժանդակ միջոց՝ կատալիզատորի կատալիտիկ աշխատանքը շատ դեպքերում բարելավելու համար:

(3) Ցերիի օքսիդի նանո մասնիկը, որն օգտագործվում է պողպատի արդյունաբերության մեջ. Նանո-ցերիումի օքսիդի օգտագործումը որպես ծածկույթ և հավելում կարող է բարելավել բարձր ջերմաստիճանի համաձուլվածքների և չժանգոտվող պողպատի օքսիդացման դիմադրությունը, տաք կոռոզիայից, ջրի կոռոզիայից և վուլկանացման հատկությունները, ինչպես նաև կարող է լինել օգտագործվում է որպես ճկուն երկաթի պատվաստանյութ:

(4) Ցերիումի օքսիդի նանո փոշին կարող է օգտագործվել ուլտրամանուշակագույն կլանող արտադրանքներում, քանի որ նանո CeO2-ն ունի էլեկտրոնային անցումային էներգիայի առատ մակարդակներ, գերազանց օպտիկական զգայունություն ուլտրամանուշակագույն լույսի կլանման նկատմամբ:Փոքր չափի էֆեկտի, բարձր հատուկ մակերեսային էֆեկտի և նանոմասնիկի մակրոսկոպիկ քվանտային էֆեկտի հետ միասին՝ CeO2 nano-ն ունի ուժեղ ցրման և արտացոլման ազդեցություն ուլտրամանուշակագույն լույսի վրա:Ավելին, CeO2-ն ունի լավ ջերմային կայունություն, անվտանգություն և ոչ թունավորություն, առատ ռեսուրսներ և պատրաստման ցածր արժեք, ուստի ակնկալվում է, որ այն կդառնա ուլտրամանուշակագույն կլանիչի նոր տեսակ, որը կիրառվում է տարբեր ոլորտներում: