ಸೀರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್/CeO2 ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್‌ನ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್:

(1) ಪಾಲಿಶ್ ಮಾಡಲು ಸೆರಿಕ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಪೌಡರ್: ನ್ಯಾನೊ ಸಿರಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪ್ರಸ್ತುತ ಗಾಜಿನ ಪಾಲಿಶ್ ಮಾಡಲು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ಅಪಘರ್ಷಕವಾಗಿದೆ.ಗಾಜಿನ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಘಟಕಗಳ ನಿಖರವಾದ ಸಂಸ್ಕರಣೆಯಲ್ಲಿ ಇದನ್ನು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ.ಪಾಲಿಶಿಂಗ್ ಪೌಡರ್‌ನಲ್ಲಿ ಪಾಲಿಶಿಂಗ್ ಪರಿಣಾಮವು CeO2 ನ ಕಣದ ಗಾತ್ರ, ಶುದ್ಧತೆ ಮತ್ತು ಗಡಸುತನದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.ಕಣದ ಗಾತ್ರವು ಮುಖ್ಯ ಅಂಶವಾಗಿದೆ.ದೊಡ್ಡ ಕಣದ ಗಾತ್ರವು ಸಾಮಾನ್ಯ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಘಟಕಗಳು ಮತ್ತು ಕನ್ನಡಕ ಮಸೂರಗಳನ್ನು ಹೊಳಪು ಮಾಡಲು ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಸಣ್ಣ ಕಣದ ಗಾತ್ರವು ಉತ್ತಮವಾದ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಮಸೂರಗಳ ಹೆಚ್ಚಿನ ವೇಗದ ಹೊಳಪುಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಉದಾಹರಣೆಗೆ: ಅತ್ಯಂತ ಸಾಮಾನ್ಯ ಮತ್ತು ಮೂಲಭೂತ ಅಜೈವಿಕ ವಸ್ತುವಾಗಿ, ಪೆನ್-ನೋಟ್‌ಬುಕ್ ಕಂಪ್ಯೂಟರ್ ಹಾರ್ಡ್ ಡಿಸ್ಕ್ ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರಗಳು, ಡಿಜಿಟಲ್ ಕ್ಯಾಮೆರಾ ಚಿಪ್‌ಗಳು, ಅಲ್ಟ್ರಾ-ನಿಖರವಾದ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಲೆನ್ಸ್‌ಗಳು, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಕಿಟಕಿಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಘಟಕಗಳು, ಹಾಗೆಯೇ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಂವಹನ ಘಟಕಗಳಲ್ಲಿ ಗಾಜನ್ನು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಫ್ಲಾಟ್-ಪ್ಯಾನಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಸುಧಾರಿತ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್.ಅಲ್ಟ್ರಾ-ಸ್ಮೂತ್, ಸಬ್-ನ್ಯಾನೋಮೀಟರ್ ಒರಟುತನ, ಸೂಕ್ಷ್ಮ ದೋಷಗಳಿಲ್ಲದ ಫ್ಲಾಟ್ ಗ್ಲಾಸ್ ಮೇಲ್ಮೈ ಈ ಹೈಟೆಕ್ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಪ್ರಮುಖ ಅಂಶವಾಗಿದೆ.ಕೆಮಿಕಲ್ ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಪಾಲಿಶಿಂಗ್ (CMP) ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್ ಸಂಸ್ಕರಣೆಯ ಪ್ರಮುಖ ಭಾಗವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ ಸಂಪೂರ್ಣ ಶೇಖರಣೆ ಮತ್ತು ಎಚ್ಚಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ.ಇದು CMP ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿರುವ ಅಲ್ಟ್ರಾಫೈನ್ ಅಪಘರ್ಷಕ ಕಣಗಳ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಹೊಳಪು ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಮತ್ತು ಸ್ಲರಿಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ತುಕ್ಕು ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ.ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಡಿಸ್ಕ್ ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್‌ನಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚು ಸಮತಟ್ಟಾದ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ, ಅದರ ಮೇಲೆ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಮಾಡಲಾಗಿದೆ.ಇದು ಪ್ರಸ್ತುತ VLSI ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಜಾಗತಿಕ ಚಪ್ಪಟೆಯಾಗುವಿಕೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುವ ಹೊಸ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದೆ.

(2) ವೇಗವರ್ಧಕಕ್ಕಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ನ್ಯಾನೊ-ಸೆರಿಯಮ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ಉತ್ತಮ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಸೀರಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಪೌಡರ್ ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ಆಮ್ಲಜನಕ ಸಂಗ್ರಹಣೆ ಮತ್ತು ಆಮ್ಲಜನಕ ಬಿಡುಗಡೆ ಕಾರ್ಯಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಆದರೆ ಅಪರೂಪದ ಭೂಮಿಯ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಸರಣಿಯಲ್ಲಿ ಅತ್ಯಂತ ಸಕ್ರಿಯ ಆಕ್ಸೈಡ್ ವೇಗವರ್ಧಕವಾಗಿದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಅನೇಕ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ ವೇಗವರ್ಧಕದ ವೇಗವರ್ಧಕ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ನ್ಯಾನೊ ಸೆರಿಯಾವನ್ನು ಸಹಾಯಕ ಏಜೆಂಟ್ ಆಗಿ ಬಳಸಬಹುದು.

(3) ಉಕ್ಕಿನ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಸೆರಿಕ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊ ಕಣ: ನ್ಯಾನೊ-ಸಿರಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಅನ್ನು ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಸಂಯೋಜಕವಾಗಿ ಬಳಸುವುದರಿಂದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ನಿರೋಧಕತೆ, ಬಿಸಿ ತುಕ್ಕು, ನೀರಿನ ತುಕ್ಕು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು ಮತ್ತು ಸ್ಟೇನ್‌ಲೆಸ್ ಸ್ಟೀಲ್‌ನ ವಲ್ಕನೈಸೇಶನ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು. ಡಕ್ಟೈಲ್ ಕಬ್ಬಿಣಕ್ಕೆ ಇನಾಕ್ಯುಲಂಟ್ ಆಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

(4) ಸೀರಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊ ಪೌಡರ್ ಅನ್ನು ನೇರಳಾತೀತ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಬಹುದು ಏಕೆಂದರೆ ನ್ಯಾನೊ CeO2 ಹೇರಳವಾದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಪರಿವರ್ತನೆಯ ಶಕ್ತಿಯ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ನೇರಳಾತೀತ ಬೆಳಕಿನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಗೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಂವೇದನೆ.ಸಣ್ಣ ಗಾತ್ರದ ಪರಿಣಾಮ, ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮೇಲ್ಮೈ ಪರಿಣಾಮ ಮತ್ತು ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್‌ನ ಮ್ಯಾಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಕ್ ಕ್ವಾಂಟಮ್ ಪರಿಣಾಮದೊಂದಿಗೆ ಸೇರಿಕೊಂಡು, CeO2 ನ್ಯಾನೊ ನೇರಳಾತೀತ ಬೆಳಕಿನ ಮೇಲೆ ಬಲವಾದ ಸ್ಕ್ಯಾಟರಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಫಲನ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಇದಲ್ಲದೆ, CeO2 ಉತ್ತಮ ಉಷ್ಣ ಸ್ಥಿರತೆ, ಸುರಕ್ಷತೆ ಮತ್ತು ವಿಷಕಾರಿಯಲ್ಲದ, ಹೇರಳವಾದ ಸಂಪನ್ಮೂಲಗಳು ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ತಯಾರಿ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಇದು ವಿವಿಧ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾದ ಹೊಸ ರೀತಿಯ ನೇರಳಾತೀತ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಿದೆ.