సిరియం డయాక్సైడ్/CeO2 నానోపార్టికల్ అప్లికేషన్:

(1) పాలిషింగ్ కోసం సెరిక్ డయాక్సైడ్ నానోపౌడర్: నానో సిరియం ఆక్సైడ్ ప్రస్తుతం గాజు పాలిషింగ్ కోసం సాధారణంగా ఉపయోగించే రాపిడి.ఇది గాజు మరియు ఆప్టికల్ భాగాల యొక్క ఖచ్చితమైన ప్రాసెసింగ్‌లో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది మరియు విస్తృతంగా అధ్యయనం చేయబడింది.పాలిషింగ్ పౌడర్‌లో పాలిషింగ్ ప్రభావాన్ని ప్రభావితం చేసేది CeO2 యొక్క కణ పరిమాణం, స్వచ్ఛత మరియు కాఠిన్యం.కణ పరిమాణం ప్రధాన అంశం.పెద్ద కణ పరిమాణం సాధారణ ఆప్టికల్ భాగాలు మరియు కళ్ళజోడు లెన్స్‌ల పాలిషింగ్‌కు అనుకూలంగా ఉంటుంది, అయితే చిన్న కణ పరిమాణం ఫైన్ ఆప్టికల్ లెన్స్‌లను హై-స్పీడ్ పాలిషింగ్‌కు అనుకూలంగా ఉంటుంది.

ఉదాహరణకు: అత్యంత సాధారణ మరియు ప్రాథమిక అకర్బన పదార్థంగా, గాజును పెన్-నోట్‌బుక్ కంప్యూటర్ హార్డ్ డిస్క్ గ్లాస్ సబ్‌స్ట్రేట్‌లు, డిజిటల్ కెమెరా చిప్స్, అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ ఆప్టికల్ లెన్స్‌లు, ఆప్టికల్ విండోస్ మరియు ఇతర ఆప్టికల్ భాగాలు, అలాగే ఆప్టికల్ కమ్యూనికేషన్ కాంపోనెంట్‌లలో విస్తృతంగా ఉపయోగిస్తారు. ఫ్లాట్-ప్యానెల్ డిస్ప్లేలు మరియు ఇతర అధునాతన ఎలక్ట్రానిక్స్.అల్ట్రా-స్మూత్, సబ్-నానోమీటర్ కరుకుదనం, సూక్ష్మ లోపాలు లేకుండా చదునైన గాజు ఉపరితలం ఈ హైటెక్ ఉత్పత్తుల పనితీరుకు సంబంధించిన ముఖ్యమైన అంశంగా మారింది.కెమికల్ మెకానికల్ పాలిషింగ్ (CMP) అనేది సిలికాన్ వేఫర్ ప్రాసెసింగ్‌లో ఒక ముఖ్యమైన భాగం మరియు ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌ల ఉత్పత్తిలో మొత్తం నిక్షేపణ మరియు ఎచింగ్ ప్రక్రియ.ఇది CMP స్లర్రీలోని అల్ట్రాఫైన్ రాపిడి కణాల యాంత్రిక పాలిషింగ్ ప్రభావాన్ని మరియు స్లర్రీ యొక్క రసాయన తుప్పు ప్రభావాన్ని ఉపయోగిస్తుంది.ఆప్టికల్ డిస్క్ సర్క్యూట్ నమూనా తయారు చేయబడిన సిలికాన్ పొరపై అత్యంత చదునైన ఉపరితలాన్ని ఏర్పరుస్తుంది.ఇది ప్రస్తుతం VLSI సర్క్యూట్‌ల తయారీ ప్రక్రియలో గ్లోబల్ ఫ్లాట్‌నింగ్‌ను అందించగల కొత్త సాంకేతికత.

(2) ఉత్ప్రేరకం కోసం ఉపయోగించే నానో-సెరియం డయాక్సైడ్ మంచి రెడాక్స్ పనితీరును కలిగి ఉంటుంది.సిరియం ఆక్సైడ్ నానోపౌడర్ ప్రత్యేకమైన ఆక్సిజన్ నిల్వ మరియు ఆక్సిజన్ విడుదల ఫంక్షన్‌లను కలిగి ఉండటమే కాకుండా, అరుదైన ఎర్త్ ఆక్సైడ్ సిరీస్‌లో అత్యంత క్రియాశీల ఆక్సైడ్ ఉత్ప్రేరకం.అందువల్ల, అనేక సందర్భాలలో ఉత్ప్రేరకం యొక్క ఉత్ప్రేరక పనితీరును మెరుగుపరచడానికి నానో సెరియాను సహాయక ఏజెంట్‌గా ఉపయోగించవచ్చు.

(3) ఉక్కు పరిశ్రమలో ఉపయోగించే సెరిక్ ఆక్సైడ్ నానో పార్టికల్: నానో-సెరియం ఆక్సైడ్‌ను పూతగా మరియు సంకలితంగా ఉపయోగించడం వల్ల అధిక-ఉష్ణోగ్రత మిశ్రమాలు మరియు స్టెయిన్‌లెస్ స్టీల్ యొక్క ఆక్సీకరణ నిరోధకత, వేడి తుప్పు, నీటి తుప్పు మరియు వల్కనైజేషన్ లక్షణాలను మెరుగుపరుస్తుంది. డక్టైల్ ఇనుము కోసం ఒక ఇనాక్యులెంట్‌గా ఉపయోగిస్తారు.

(4) Cerium ఆక్సైడ్ నానో పౌడర్‌ను అతినీలలోహిత శోషక ఉత్పత్తులలో ఉపయోగించవచ్చు ఎందుకంటే నానో CeO2 సమృద్ధిగా ఎలక్ట్రానిక్ పరివర్తన శక్తి స్థాయిలను కలిగి ఉంటుంది, అతినీలలోహిత కాంతి శోషణకు అద్భుతమైన ఆప్టికల్ సెన్సిటివిటీని కలిగి ఉంటుంది.చిన్న సైజు ప్రభావం, అధిక నిర్దిష్ట ఉపరితల ప్రభావం మరియు నానోపార్టికల్ యొక్క మాక్రోస్కోపిక్ క్వాంటం ప్రభావంతో కలిపి, CeO2 నానో అతినీలలోహిత కాంతిపై బలమైన విక్షేపం మరియు ప్రతిబింబ ప్రభావాలను కలిగి ఉంటుంది.అంతేకాకుండా, CeO2 మంచి ఉష్ణ స్థిరత్వం, భద్రత మరియు నాన్-టాక్సిసిటీ, సమృద్ధిగా వనరులు మరియు తక్కువ తయారీ ఖర్చును కలిగి ఉంది, కాబట్టి ఇది వివిధ రంగాలలో వర్తించే అతినీలలోహిత శోషక కొత్త రకంగా మారుతుందని భావిస్తున్నారు.