SiC ನ್ಯಾನೊವೈರ್‌ಗಳ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಸಂಯೋಜಕ ಪ್ರಮಾಣ (ಉಲ್ಲೇಖಕ್ಕಾಗಿ ಮಾತ್ರ)
ಶಿಫಾರಸು ಮಾಡಲಾದ ಪ್ರಸರಣ ಮಾಧ್ಯಮ: ಡಿಯೋನೈಸ್ಡ್ ವಾಟರ್, ಡಿಸ್ಟಿಲ್ಡ್ ವಾಟರ್, ಅನ್‌ಹೈಡ್ರಸ್ ಎಥೆನಾಲ್, ಎಥಿಲೀನ್ ಗ್ಲೈಕೋಲ್
ಶಿಫಾರಸು ಮಾಡಲಾದ ಪ್ರಸರಣ: ಪಾಲಿಥಿಲೀನ್ ಇಮೈನ್ (PEI), ಅಯಾನಿಕ್ ಪಾಲಿಯಾಕ್ರಿ ಲ್ಯಾಮೈಡ್ (PAM), ಸೋಡಿಯಂ ಪೈರೋಫಾಸ್ಫೇಟ್ (SPP), ಟ್ವೈನ್ 80, ಸಿಲಿಕಾನ್ ಸಂಯುಕ್ತ ಸಂಯೋಜಕ ಏಜೆಂಟ್, ಪಾಲಿಥಿಲೀನ್ ಗ್ಲೈಕಾಲ್, ಸೋಡಿಯಂ ಹೆಕ್ಸಾಮೆಟಾಫಾಸ್ಫೇಟ್, ಸೋಡಿಯಂ ಕಾರ್ಬಾಕ್ಸಿಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ (CMC), ಇತ್ಯಾದಿ.
ಸಾಮಾನ್ಯ ಸೆರಾಮಿಕ್ ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ ಸಂಯೋಜನೆಗಳಲ್ಲಿ, 10wt% ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ನ್ಯಾನೊವೈರ್‌ಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸೇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, 1wt% ನಿಂದ ಪ್ರಾರಂಭಿಸಲು ಮತ್ತು ಕ್ರಮೇಣ ಪ್ರಯೋಗ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಮೈಜ್ ಮಾಡಲು ಶಿಫಾರಸು ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ.ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಅಭ್ಯಾಸದ ಪ್ರಕಾರ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸೇರಿಸುವ ಮೊತ್ತವು ಉತ್ತಮವಲ್ಲ, ಇದು ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತು, ವಸ್ತುವಿನ ಗಾತ್ರ, ಸಿಂಟರ್ ಮಾಡುವ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದೆ, ಸಮಂಜಸವಾದ ಸೇರಿಸುವ ಮೊತ್ತವು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಠಿಣ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು.

ಚದುರಿದ SiC ನ್ಯಾನೊವೈರ್ ಸ್ಲರಿ ಮತ್ತು ಸೆರಾಮಿಕ್ ಪುಡಿಯನ್ನು ಬೆರೆಸಿದ ನಂತರ, 1-12 ಗಂಟೆಗಳ ಕಾಲ ಚದುರಿಸಲು ಮುಂದುವರಿಸಿ.ಮಣಿ ಗಿರಣಿ ಪ್ರಸರಣ ಅಥವಾ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಸ್ಫೂರ್ತಿದಾಯಕ ವಿಧಾನವನ್ನು ಶಿಫಾರಸು ಮಾಡಲಾಗಿದೆ.ಚೆಂಡು ಮಿಲ್ಲಿಂಗ್ ವಿಧಾನವು ನ್ಯಾನೊವೈರ್‌ಗಳನ್ನು ಒಡೆಯಲು ಸುಲಭವಾಗಿದೆ.

SiC ನ್ಯಾನೊವೈರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮಿಶ್ರಣವು ಉತ್ತಮವಾಗಿಲ್ಲದಿದ್ದರೆ, ಮಿಶ್ರಣದ ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು SiCNW ನ 1% ನಷ್ಟು ಸೋಡಿಯಂ ಹೆಕ್ಸಾಮೆಟಾಫಾಸ್ಫೇಟ್ (ಅಥವಾ ಸ್ವಲ್ಪ ಪ್ರಮಾಣದ ಐಸೊಪ್ರೊಪನಾಲ್ / ಎಥೆನಾಲ್) ಅನ್ನು ಪ್ರಸರಣಕಾರಕವಾಗಿ ಸೇರಿಸಬಹುದು.

ಚದುರಿದ ನಂತರ, ಶುಷ್ಕ ಮತ್ತು ನಿರ್ಜಲೀಕರಣವನ್ನು ತಕ್ಷಣವೇ ಕೈಗೊಳ್ಳಬೇಕು.ಸ್ಲರಿಯನ್ನು ತೆಳ್ಳಗೆ ಹರಡಲು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪಾತ್ರೆಯಲ್ಲಿ ಸುರಿಯಿರಿ, ಮತ್ತು ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಿ ಸುಲಭವಾಗಿ ಆವಿಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ಜಲೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ನ್ಯಾನೊವೈರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ ನಡುವಿನ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳ ಡಿಲಮಿನೇಷನ್ ಅನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು ಇದು ಹೆಚ್ಚು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.ಶಿಫಾರಸು ಮಾಡಲಾದ ಒಣಗಿಸುವ ತಾಪಮಾನವು 110-160℃ ಆಗಿದೆ.