SiC നാനോവയറുകളുടെ ഡിസ്‌പേഴ്സണും അഡിറ്റീവ് അളവും (റഫറൻസിനായി മാത്രം)
ശുപാർശ ചെയ്യുന്ന വിതരണ മാധ്യമം: ഡീയോണൈസ്ഡ് വാട്ടർ, വാറ്റിയെടുത്ത വെള്ളം, അൺഹൈഡ്രസ് എത്തനോൾ, എഥിലീൻ ഗ്ലൈക്കോൾ
ശുപാർശ ചെയ്യുന്ന ഡിസ്പെർസന്റ്: പോളിയെത്തിലീൻ ഇമൈൻ (പിഇഐ), നോയോണിക് പോളിഅക്രി ലാമൈഡ് (പിഎഎം), സോഡിയം പൈറോഫോസ്ഫേറ്റ് (എസ്പിപി), ട്വെയിൻ 80, സിലിക്കൺ കോമ്പൗണ്ട് കപ്ലിംഗ് ഏജന്റ്, പോളിയെത്തിലീൻ ഗ്ലൈക്കോൾ, സോഡിയം ഹെക്സാമെറ്റാഫോസ്ഫേറ്റ്, സോഡിയം കാർബോക്സിമീഥൈൽ സെല്ലുലോസ് (സിഎംസി), മുതലായവ.
സാധാരണ സെറാമിക് മാട്രിക്സ് കോമ്പോസിറ്റുകളിൽ, 10wt% ൽ താഴെയുള്ള സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് നാനോവയറുകൾ സാധാരണയായി ചേർക്കുന്നു. നിർദ്ദിഷ്ട ഒപ്റ്റിമൈസേഷൻ പ്രക്രിയയിൽ, 1wt% മുതൽ ആരംഭിക്കാനും ക്രമേണ പരീക്ഷണം നടത്താനും ഒപ്റ്റിമൈസ് ചെയ്യാനും ശുപാർശ ചെയ്യുന്നു.പരീക്ഷണാത്മക സമ്പ്രദായമനുസരിച്ച്, ചേർക്കുന്ന തുക കൂടുതൽ മെച്ചമായിരിക്കണമെന്നില്ല, അത് അസംസ്കൃത വസ്തു, മെറ്റീരിയൽ വലുപ്പം, സിന്ററിംഗ് താപനില എന്നിവയുമായി ബന്ധപ്പെട്ടിരിക്കുന്നു, ന്യായമായ ചേർക്കുന്ന തുകയ്ക്ക് മികച്ച കാഠിന്യം ലഭിക്കും.

ചിതറിക്കിടക്കുന്ന SiC നാനോവയർ സ്ലറിയും സെറാമിക് പൊടിയും കലർത്തി 1-12 മണിക്കൂർ ചിതറുന്നത് തുടരുക.ബീഡ് മിൽ ഡിസ്പർഷൻ അല്ലെങ്കിൽ മെക്കാനിക്കൽ ഇളക്കിവിടൽ രീതി ശുപാർശ ചെയ്യുന്നു.നാനോ വയറുകൾ തകരാൻ ബോൾ മില്ലിംഗ് രീതി എളുപ്പമാണ്.

SiC നാനോവയറുകളുടെയും മാട്രിക്സ് മെറ്റീരിയലുകളുടെയും മിശ്രണം അത്ര നല്ലതല്ലെങ്കിൽ, മിക്സിംഗ് ഏകീകൃതത മെച്ചപ്പെടുത്തുന്നതിന് SiCNW യുടെ 1% പിണ്ഡമുള്ള സോഡിയം ഹെക്സാമെറ്റാഫോസ്ഫേറ്റ് (അല്ലെങ്കിൽ ഒരു ചെറിയ അളവിലുള്ള ഐസോപ്രോപനോൾ/എഥനോൾ) ഒരു ഡിസ്പെൻസന്റായി ചേർക്കാവുന്നതാണ്.

ചിതറിച്ച ശേഷം, ഉണങ്ങിയതും നിർജ്ജലീകരണവും ഉടനടി നടത്തണം.ഒരു വലിയ വിസ്തീർണ്ണമുള്ള ഒരു പാത്രത്തിൽ സ്ലറി ഒഴിക്കുക, അത് നേർത്തതായി പരത്തുക, പ്രദേശം വർദ്ധിപ്പിക്കുന്നത് ബാഷ്പീകരിക്കപ്പെടുകയും എളുപ്പത്തിൽ നിർജ്ജലീകരണം സംഭവിക്കുകയും ചെയ്യും. നാനോവയറുകൾക്കും മാട്രിക്സിനും ഇടയിൽ അസംസ്കൃത വസ്തുക്കളുടെ ഡീലാമിനേഷൻ ഒഴിവാക്കേണ്ടത് പ്രധാനമാണ്.ശുപാർശ ചെയ്യപ്പെടുന്ന ഉണക്കൽ താപനില 110-160℃ ആണ്.