0,3-0,5um 99,9% siliciumnitridpulver mikro 300nm-500nm
0,3-0,5um siliciumnitridpulver
Specifikation:
| Kode | L560 |
| Navn | Siliciumnitrid pulver |
| Formel | Si3N4 |
| CAS-nr. | 12033-89-5 |
| Partikelstørrelse | 0,3-0,5 um |
| Renhed | 99,9 % eller 99,99 % |
| Krystal type | Alfa |
| Udseende | Råhvidt pulver |
| Pakke | 1 kg eller efter behov |
| Potentielle anvendelser | Anvendes som formslipmiddel til polykrystallinsk silicium og enkeltkrystal siliciumkvartsdigel;bruges som avanceret ildfast materiale;bruges i tyndfilm solceller;etc. |
Beskrivelse:
Si3N4 er en ny type højtemperaturstruktur keramisk materiale med fremragende kemiske egenskaber, god termisk stødmodstand, lav temperatur krybning, ikke-befugtning til en række ikke-jernholdige metalsmeltninger, høj hårdhed, selvsmøring, er blevet meget brugt i skærende værktøjer, metallurgi, luftfart, kemiske og andre industrier.
Siliciumnitrid kan også påføres tyndfilmssolceller.Efter at siliciumnitridfilmen er belagt med PECVD-metoden, kan ikke kun reflektionen af indfaldende lys reduceres, men også i afsætningsprocessen af siliciumnitridfilmen kommer hydrogenatomerne i reaktionsproduktet ind i siliciumnitridfilmen og silicium wafer at passivere Rollen af defekter.
Opbevaringstilstand:
Siliciumnitridpulver skal opbevares på et forseglet, undgå let, tørt sted.Opbevaring ved stuetemperatur er ok.
SEM:
