Si3N4 este un nou tip de material ceramic cu structură la temperatură înaltă, cu proprietăți chimice excelente, rezistență bună la șocuri termice, fluaj la temperaturi scăzute, neumezire la o varietate de topituri de metale neferoase, duritate ridicată, auto-lubrificare, a fost utilizat pe scară largă în scule de tăiere, metalurgie, aviație, chimie și alte industrii.

Nitrura de siliciu poate fi aplicată și pe celulele solare cu peliculă subțire.După ce filmul de nitrură de siliciu este placat prin metoda PECVD, nu numai că poate fi redusă reflexia luminii incidente, dar, de asemenea, în procesul de depunere a filmului de nitrură de siliciu, atomii de hidrogen ai produsului de reacție intră în filmul de nitrură de siliciu și plachetă de siliciu a pasiva Rolul defectelor.