Si3N4 е нов тип на високотемпературна структура керамички материјал со одлични хемиски својства, добра отпорност на термички шок, ниска температура лазење, немокрење до разновидно топење на обоени метали, висока цврстина, само-подмачкување, широко се користи во алати за сечење, металургија, авијација, хемиска и други индустрии.

Силициум нитрид може да се примени и на соларни ќелии со тенок филм.Откако филмот со силициум нитрид е обложен со методот PECVD, не само што може да се намали рефлексијата на упадната светлина, туку, исто така, во процесот на таложење на филмот од силициум нитрид, атомите на водород на реакциониот производ влегуваат во филмот на силициум нитрид и силиконски нафора за пасивирање Улогата на дефекти.