Si3N4 ਇੱਕ ਨਵੀਂ ਕਿਸਮ ਦੀ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਬਣਤਰ ਵਸਰਾਵਿਕ ਸਮੱਗਰੀ ਹੈ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਰਸਾਇਣਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ, ਵਧੀਆ ਥਰਮਲ ਸਦਮਾ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਤਾਪਮਾਨ ਕ੍ਰੀਪ, ਗੈਰ-ਲੋਹ ਧਾਤ ਦੇ ਪਿਘਲਣ ਲਈ ਗੈਰ-ਗਿੱਲਾ, ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ, ਸਵੈ-ਲੁਬਰੀਕੇਸ਼ਨ, ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਕੱਟਣ ਵਾਲੇ ਸੰਦ, ਧਾਤੂ ਵਿਗਿਆਨ, ਹਵਾਬਾਜ਼ੀ, ਰਸਾਇਣਕ ਅਤੇ ਹੋਰ ਉਦਯੋਗ।

ਸਿਲੀਕਾਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਨੂੰ ਪਤਲੇ-ਫਿਲਮ ਸੂਰਜੀ ਸੈੱਲਾਂ 'ਤੇ ਵੀ ਲਾਗੂ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।PECVD ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਸਿਲਿਕਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਪਲੇਟ ਕੀਤੇ ਜਾਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਨਾ ਸਿਰਫ ਘਟਨਾ ਪ੍ਰਕਾਸ਼ ਦੇ ਪ੍ਰਤੀਬਿੰਬ ਨੂੰ ਘਟਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਬਲਕਿ, ਸਿਲੀਕਾਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੇ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੱਚ, ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਉਤਪਾਦ ਦੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨ ਪਰਮਾਣੂ ਸਿਲੀਕਾਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਦਾਖਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਨੁਕਸ ਦੀ ਭੂਮਿਕਾ ਨੂੰ passivate ਕਰਨ ਲਈ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰ.