Si3N4 هو نوع جديد من المواد الخزفية ذات الهيكل عالي الحرارة مع خصائص كيميائية ممتازة ، ومقاومة جيدة للصدمات الحرارية ، وزحف درجة حرارة منخفضة ، وعدم ترطيب لمجموعة متنوعة من ذوبان المعادن غير الحديدية ، والصلابة العالية ، والتشحيم الذاتي ، وقد استخدم على نطاق واسع في أدوات القطع والتعدين والطيران والصناعات الكيماوية وغيرها.

يمكن أيضًا تطبيق نيتريد السيليكون على الخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة.بعد طلاء فيلم نيتريد السيليكون بطريقة PECVD ، لا يمكن فقط تقليل انعكاس الضوء الساقط ، ولكن أيضًا ، في عملية ترسيب فيلم نيتريد السيليكون ، تدخل ذرات الهيدروجين لمنتج التفاعل في فيلم نيتريد السيليكون و رقاقة السيليكون لإفشال دور العيوب.