શા માટે સીએમપી માટે સિલિકોન ડાયોક્સાઇડ નેનો પાવડરનો ઉપયોગ કરી શકાય?

નેનો-સિલિકા પ્રમાણમાં ઓછી કિંમત, અને સારી વિક્ષેપતા, યાંત્રિક ઘર્ષણ, ઉચ્ચ શક્તિ અને સંલગ્નતા, સારી ફિલ્મ રચના, ઉચ્ચ અભેદ્યતા, ઉચ્ચ હવામાન અને વસ્ત્રો પ્રતિકાર, નાના કણોનું કદ, કઠિનતા ધરાવે છે.તેમાં મધ્યમ, ઓછી સ્નિગ્ધતા, ઓછી સંલગ્નતા અને પોલિશિંગ પછી સરળ સફાઈના ફાયદા પણ છે.આમ તે ઉત્તમ પ્રદર્શન સાથે CMP ટેકનોલોજી માટે પોલિશિંગ સામગ્રી છે.

SiO2 નેનો પાર્ટિકલનો ઉપયોગ મોટાભાગે મેટલ, નીલમ, મોનોક્રિસ્ટાલિન સિલિકોન, ગ્લાસ-સિરામિક્સ, લાઇટ ગાઇડ ટ્યુબ અને અન્ય સપાટીઓના ચોકસાઇ પોલિશિંગ માટે થાય છે.નેનો સિલિકોન ઓક્સાઇડનું કદ 100nm ની નીચે છે, જે વિશાળ વિશિષ્ટ સપાટી વિસ્તાર, ઉચ્ચ વિખેરતા અને અભેદ્યતા ધરાવે છે, તેથી પોલિશ્ડ વર્કપીસની સપાટી પર નુકસાનનું સ્તર અત્યંત નાનું છે;વધુમાં, સિલિકા નેનોપાર્ટિકલની કઠિનતા સિલિકોન વેફર જેવી જ છે.તેથી, તેનો ઉપયોગ ઘણીવાર સેમિકન્ડક્ટર સિલિકોન વેફરને પોલિશ કરવા માટે પણ થાય છે.

CMP એપ્લિકેશનમાં નેનો SiO2 પાવડરના ફાયદા:

1. પોલિશિંગ એ SiO2 અને અન્ય સામગ્રીના એકસમાન નેનોપાર્ટિકલ્સનો ઉપયોગ છે, જે પ્રક્રિયા કરેલા ભાગોને ભૌતિક નુકસાન પહોંચાડશે નહીં, અને ઝડપ ઝડપી છે.એકસમાન અને મોટા કણોના કદ સાથે કોલોઇડલ સિલિકા જેવા કણોનો ઉપયોગ હાઇ-સ્પીડ પોલિશિંગનો હેતુ હાંસલ કરી શકે છે.

2. તે સાધનોને કાટ કરતું નથી અને ઉચ્ચ સુરક્ષા પ્રદર્શન ધરાવે છે.

3. ઉચ્ચ ફ્લેટનેસ ગ્રાઇન્ડીંગ પ્રોસેસિંગ હાંસલ કરો.

4. પોલિશિંગ પછી સપાટી પરના સ્ક્રેચને અસરકારક રીતે ઘટાડે છે અને પોલિશિંગ પછી સપાટીની ખરબચડી ઘટાડે છે.