CMP ಗಾಗಿ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೋ ಪೌಡರ್ ಅನ್ನು ಏಕೆ ಬಳಸಬಹುದು?

ನ್ಯಾನೊ-ಸಿಲಿಕಾ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚ, ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಪ್ರಸರಣ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಸವೆತ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಉತ್ತಮ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಹವಾಮಾನ ಮತ್ತು ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ, ಸಣ್ಣ ಕಣದ ಗಾತ್ರ, ಗಡಸುತನ.ಇದು ಮಧ್ಯಮ, ಕಡಿಮೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ, ಕಡಿಮೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಪಾಲಿಶ್ ಮಾಡಿದ ನಂತರ ಸುಲಭವಾಗಿ ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸುವ ಅನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಹೀಗಾಗಿ ಇದು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯೊಂದಿಗೆ CMP ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಕ್ಕೆ ಹೊಳಪು ನೀಡುವ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ.

SiO2 ನ್ಯಾನೊ ಕಣವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಲೋಹ, ನೀಲಮಣಿ, ಏಕಸ್ಫಟಿಕದ ಸಿಲಿಕಾನ್, ಗ್ಲಾಸ್-ಸೆರಾಮಿಕ್ಸ್, ಲೈಟ್ ಗೈಡ್ ಟ್ಯೂಬ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಮೇಲ್ಮೈಗಳ ನಿಖರವಾದ ಹೊಳಪು ಮಾಡಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ನ್ಯಾನೊ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಗಾತ್ರವು 100nm ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಿದೆ, ಇದು ದೊಡ್ಡ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಹೊಳಪು ಮಾಡಿದ ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್‌ನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಹಾನಿಯ ಪದರವು ತುಂಬಾ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ;ಜೊತೆಗೆ, ಸಿಲಿಕಾ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್‌ನ ಗಡಸುತನವು ಸಿಲಿಕಾನ್ ವೇಫರ್‌ಗಳಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಇದನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಅರೆವಾಹಕ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಬಿಲ್ಲೆಗಳನ್ನು ಹೊಳಪು ಮಾಡಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

CMP ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ನಲ್ಲಿ ನ್ಯಾನೊ SiO2 ಪೌಡರ್‌ನ ಅನುಕೂಲಗಳು:

1. ಪಾಲಿಶಿಂಗ್ ಎನ್ನುವುದು SiO2 ಮತ್ತು ಇತರ ವಸ್ತುಗಳ ಏಕರೂಪದ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್‌ಗಳ ಬಳಕೆಯಾಗಿದೆ, ಇದು ಸಂಸ್ಕರಿಸಿದ ಭಾಗಗಳಿಗೆ ಭೌತಿಕ ಹಾನಿಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ವೇಗವು ವೇಗವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಏಕರೂಪದ ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ ಕಣದ ಗಾತ್ರದೊಂದಿಗೆ ಕೊಲೊಯ್ಡಲ್ ಸಿಲಿಕಾದಂತಹ ಕಣಗಳ ಬಳಕೆಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ವೇಗದ ಹೊಳಪು ಮಾಡುವ ಉದ್ದೇಶವನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು.

2. ಇದು ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ನಾಶಪಡಿಸುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸುರಕ್ಷತಾ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

3. ಹೆಚ್ಚಿನ ಫ್ಲಾಟ್ನೆಸ್ ಗ್ರೈಂಡಿಂಗ್ ಸಂಸ್ಕರಣೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಿ.

4. ಪಾಲಿಶ್ ಮಾಡಿದ ನಂತರ ಮೇಲ್ಮೈ ಗೀರುಗಳನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಿ ಮತ್ತು ಹೊಳಪು ಮಾಡಿದ ನಂತರ ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಿ.