Ke hobane'ng ha silicon dioxide nano phofo e ka sebelisoa bakeng sa CMP?

Nano-silica e na le litšenyehelo tse tlase haholo, 'me e na le dispersibility e ntle, abrasion ea mochini, matla a phahameng le ho khomarela, sebopeho se setle sa filimi, ho kenella ka mokhoa o phahameng, boemo ba leholimo bo phahameng le ho hanyetsa ho apara, boholo ba likaroloana, boima.E boetse e na le melemo ea "viscosity" e itekanetseng, e tlaase, ho khomarela ka tlaase, le ho hloekisa habonolo ka mor'a ho belisoa.Ka hona ke lisebelisoa tse benyang bakeng sa theknoloji ea CMP e nang le ts'ebetso e ntle haholo.

SiO2 nano particle e atisa ho sebelisoa bakeng sa ho bentša ka mokhoa o nepahetseng oa tšepe, safire, silicon ea monocrystalline, khalase-ceramics, tube ea tataiso e khanyang le libaka tse ling.Boholo ba nano silicon oxide e ka tlase ho 100nm, e nang le sebaka se seholo se ikhethileng, se nang le dispersibility e phahameng le permeability, kahoo lera la tšenyo e holim'a sebaka sa mosebetsi se betliloeng se nyane haholo;Ho phaella moo, ho thatafala ha silika nanoparticle ho tšoana le liphaphatha tsa silicon.Ka hona, hangata e sebelisoa bakeng sa ho bentša liphaephe tsa silicon tsa semiconductor.

Melemo ea phofo ea nano SiO2 ts'ebelisong ea CMP:

1. Ho penta ke tšebeliso ea li-nanoparticles tse sa tšoaneng tsa SiO2 le lisebelisoa tse ling, tse ke keng tsa baka tšenyo ea 'mele likarolong tse entsoeng,' me lebelo le potlakile.Tšebeliso ea likaroloana tse kang silica ea colloidal e nang le junifomo le boholo ba likaroloana tse kholo li ka finyella morero oa ho belisa ka lebelo le phahameng.

2. Ha e senye lisebelisoa mme e na le ts'ebetso e phahameng ea ts'ireletso.

3. Finyella phahameng flatness sila tshebetso.

4. Ho fokotsa ka mokhoa o atlehang likhahla tse ka holim'a metsi ka mor'a ho bentša le ho fokotsa ho hlaka ka holim'a metsi ka mor'a ho penta.