Pse nano pluhuri i dioksidit të silikonit mund të përdoret për CMP?

Nano-silicë ka kosto relativisht të ulët dhe shpërhapje të mirë, gërryerje mekanike, forcë dhe ngjitje të lartë, formim të mirë filmi, përshkueshmëri të lartë, rezistencë të lartë ndaj motit dhe konsumim, madhësi të vogël të grimcave, fortësi.Ai gjithashtu ka avantazhet e viskozitetit të moderuar, të ulët, ngjitjes së ulët dhe pastrimit të lehtë pas lustrimit.Kështu është një material lustrues për teknologjinë CMP me performancë të shkëlqyer.

Nano grimca SiO2 përdoret shpesh për lustrim me saktësi të metaleve, safirit, silikonit monokristalor, qelq-qeramikës, tubit udhëzues të dritës dhe sipërfaqeve të tjera.Madhësia e nano oksidit të silikonit është nën 100 nm, e cila ka një sipërfaqe të madhe specifike, shpërndarje dhe përshkueshmëri të lartë, kështu që shtresa e dëmtimit në sipërfaqen e pjesës së lëmuar të punës është jashtëzakonisht e vogël;Përveç kësaj, ngurtësia e nanogrimcave të silicës është e ngjashme me atë të vaferave të silikonit.Prandaj, përdoret gjithashtu shpesh për lustrimin e vaferave të silikonit gjysmëpërçues.

Përparësitë e pluhurit nano SiO2 në aplikimin CMP:

1. Lustrim është përdorimi i nanogrimcave uniforme të SiO2 dhe materialeve të tjera, të cilat nuk do të shkaktojnë dëme fizike në pjesët e përpunuara dhe shpejtësia është e shpejtë.Përdorimi i grimcave të tilla si silicë koloidale me madhësi uniforme dhe të madhe të grimcave mund të arrijë qëllimin e lustrimit me shpejtësi të lartë.

2. Nuk gërryen pajisjet dhe ka performancë të lartë sigurie.

3. Arritja e përpunimit të bluarjes me nivele të larta.

4. Zvogëloni në mënyrë efektive gërvishtjet e sipërfaqes pas lustrimit dhe zvogëloni vrazhdësinë e sipërfaqes pas lustrimit.