Зашто се силицијум диоксид нано прах може користити за ЦМП?

Нано-силицијум има релативно ниску цену, добру дисперзибилност, механичку абразију, високу чврстоћу и адхезију, добро формирање филма, високу пропустљивост, високу отпорност на временске услове и хабање, малу величину честица, тврдоћу.Такође има предности умереног, ниског вискозитета, ниске адхезије и лаког чишћења након полирања.Дакле, то је материјал за полирање за ЦМП технологију са одличним перформансама.

СиО2 нано честица се често користи за прецизно полирање метала, сафира, монокристалног силицијума, стаклокерамике, светловодне цеви и других површина.Величина нано силицијум оксида је испод 100нм, који има велику специфичну површину, високу дисперзибилност и пропустљивост, тако да је слој оштећења на површини полираног радног предмета изузетно мали;поред тога, тврдоћа наночестица силицијум диоксида је слична тврдоћи силицијумских плочица.Због тога се често користи и за полирање полупроводничких силицијумских плочица.

Предности нано СиО2 праха у примени ЦМП:

1. Полирање је употреба униформних наночестица СиО2 и других материјала, који неће изазвати физичка оштећења обрађених делова, а брзина је велика.Употреба честица као што је колоидни силицијум са уједначеном и великом величином честица може постићи сврху брзог полирања.

2. Не кородира опрему и има високе безбедносне перформансе.

3. Постигните високу равност обраде брушења.

4. Ефикасно смањите површинске огреботине након полирања и смањите храпавост површине након полирања.