ਸੀਐਮਪੀ ਲਈ ਸਿਲੀਕਾਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਨੈਨੋ ਪਾਊਡਰ ਕਿਉਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ?

ਨੈਨੋ-ਸਿਲਿਕਾ ਵਿੱਚ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਘੱਟ ਲਾਗਤ, ਅਤੇ ਚੰਗੀ ਫੈਲਣਯੋਗਤਾ, ਮਕੈਨੀਕਲ ਘਬਰਾਹਟ, ਉੱਚ ਤਾਕਤ ਅਤੇ ਅਡੈਸ਼ਨ, ਚੰਗੀ ਫਿਲਮ ਨਿਰਮਾਣ, ਉੱਚ ਪਾਰਦਰਸ਼ੀਤਾ, ਉੱਚ ਮੌਸਮ ਅਤੇ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਛੋਟੇ ਕਣਾਂ ਦਾ ਆਕਾਰ, ਕਠੋਰਤਾ ਹੈ।ਇਸ ਵਿੱਚ ਮੱਧਮ, ਘੱਟ ਲੇਸ, ਘੱਟ ਚਿਪਕਣ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਆਸਾਨ ਸਫਾਈ ਦੇ ਫਾਇਦੇ ਵੀ ਹਨ।ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਇਹ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਦੇ ਨਾਲ CMP ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਲਈ ਇੱਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਸਮੱਗਰੀ ਹੈ।

SiO2 ਨੈਨੋ ਕਣ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਅਕਸਰ ਧਾਤ, ਨੀਲਮ, ਮੋਨੋਕ੍ਰਿਸਟਲਾਈਨ ਸਿਲੀਕਾਨ, ਗਲਾਸ-ਸੀਰਾਮਿਕਸ, ਲਾਈਟ ਗਾਈਡ ਟਿਊਬ ਅਤੇ ਹੋਰ ਸਤਹਾਂ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਨੈਨੋ ਸਿਲੀਕਾਨ ਆਕਸਾਈਡ ਦਾ ਆਕਾਰ 100nm ਤੋਂ ਘੱਟ ਹੈ, ਜਿਸਦਾ ਇੱਕ ਵੱਡਾ ਖਾਸ ਸਤਹ ਖੇਤਰ, ਉੱਚ ਫੈਲਣਯੋਗਤਾ ਅਤੇ ਪਾਰਦਰਸ਼ੀਤਾ ਹੈ, ਇਸਲਈ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਵਰਕਪੀਸ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਨੁਕਸਾਨ ਦੀ ਪਰਤ ਬਹੁਤ ਛੋਟੀ ਹੈ;ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਸਿਲਿਕਾ ਨੈਨੋਪਾਰਟੀਕਲ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰਾਂ ਦੇ ਸਮਾਨ ਹੈ।ਇਸ ਲਈ, ਇਹ ਅਕਸਰ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵੇਫਰਾਂ ਨੂੰ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਲਈ ਵੀ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।

CMP ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਵਿੱਚ ਨੈਨੋ SiO2 ਪਾਊਡਰ ਦੇ ਫਾਇਦੇ:

1. ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨਾ SiO2 ਅਤੇ ਹੋਰ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੇ ਇਕਸਾਰ ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤੇ ਭਾਗਾਂ ਨੂੰ ਸਰੀਰਕ ਨੁਕਸਾਨ ਨਹੀਂ ਹੋਵੇਗਾ, ਅਤੇ ਗਤੀ ਤੇਜ਼ ਹੈ।ਇਕਸਾਰ ਅਤੇ ਵੱਡੇ ਕਣਾਂ ਦੇ ਆਕਾਰ ਵਾਲੇ ਕੋਲੋਇਡਲ ਸਿਲਿਕਾ ਵਰਗੇ ਕਣਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਹਾਈ-ਸਪੀਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਦੇ ਉਦੇਸ਼ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।

2. ਇਹ ਸਾਜ਼-ਸਾਮਾਨ ਨੂੰ ਖਰਾਬ ਨਹੀਂ ਕਰਦਾ ਅਤੇ ਉੱਚ ਸੁਰੱਖਿਆ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਹੈ.

3. ਉੱਚ ਪੱਧਰੀ ਪੀਹਣ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰੋ।

4. ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਸਤਹ ਦੇ ਖੁਰਚਿਆਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਘਟਾਓ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਸਤਹ ਦੀ ਖੁਰਦਰੀ ਘਟਾਓ।