CMP için neden silikon dioksit nano tozu kullanılabilir?

Nano-silika nispeten düşük maliyetli ve iyi dağılabilirliğe, mekanik aşınmaya, yüksek mukavemete ve yapışmaya, iyi film oluşumuna, yüksek geçirgenliğe, yüksek hava ve aşınma direncine, küçük parçacık boyutuna ve sertliğe sahiptir.Ayrıca orta, düşük viskozite, düşük yapışma ve cilalama sonrası kolay temizleme avantajlarına sahiptir.Bu nedenle CMP teknolojisi için mükemmel performansa sahip bir polisaj malzemesidir.

SiO2 nano parçacığı genellikle metal, safir, monokristal silikon, cam-seramik, ışık kılavuz tüpü ve diğer yüzeylerin hassas şekilde parlatılması için kullanılır.Nano silikon oksidin boyutu, geniş bir spesifik yüzey alanına, yüksek dağılabilirliğe ve geçirgenliğe sahip olan 100nm'nin altındadır, bu nedenle cilalı iş parçasının yüzeyindeki hasar tabakası son derece küçüktür;ayrıca silika nanopartikülün sertliği silikon gofretlerinkine benzer.Bu nedenle, genellikle yarı iletken silikon gofretlerin parlatılması için de kullanılır.

CMP uygulamasında nano SiO2 tozunun avantajları:

1. Parlatma, SiO2 ve diğer malzemelerin tekdüze nanoparçacıklarının, işlenen parçalarda fiziksel hasara neden olmayacak şekilde kullanılmasıdır ve hız yüksektir.Tekdüze ve büyük parçacık boyutuna sahip kolloidal silika gibi parçacıkların kullanılması, yüksek hızlı parlatma amacına ulaşabilir.

2. Ekipmanı aşındırmaz ve yüksek güvenlik performansına sahiptir.

3. Yüksek düzlük öğütme işlemi elde edin.

4. Parlatmadan sonra yüzey çiziklerini etkili bir şekilde azaltın ve parlatmadan sonra yüzey pürüzlülüğünü azaltın.