സി‌എം‌പിക്ക് സിലിക്കൺ ഡയോക്‌സൈഡ് നാനോ പൗഡർ ഉപയോഗിക്കുന്നത് എന്തുകൊണ്ട്?

നാനോ-സിലിക്കയ്ക്ക് താരതമ്യേന കുറഞ്ഞ വിലയും, നല്ല ഡിസ്പേഴ്സബിലിറ്റിയും, മെക്കാനിക്കൽ ഉരച്ചിലും, ഉയർന്ന ശക്തിയും അഡീഷനും, നല്ല ഫിലിം രൂപീകരണം, ഉയർന്ന പെർമാസബിലിറ്റി, ഉയർന്ന കാലാവസ്ഥയും വസ്ത്രധാരണ പ്രതിരോധവും, ചെറിയ കണങ്ങളുടെ വലിപ്പം, കാഠിന്യം എന്നിവയുണ്ട്.മിതമായ, കുറഞ്ഞ വിസ്കോസിറ്റി, കുറഞ്ഞ ബീജസങ്കലനം, മിനുക്കിയ ശേഷം എളുപ്പത്തിൽ വൃത്തിയാക്കൽ എന്നിവയുടെ ഗുണങ്ങളും ഇതിന് ഉണ്ട്.അതിനാൽ ഇത് മികച്ച പ്രകടനത്തോടെ CMP സാങ്കേതികവിദ്യയ്ക്കുള്ള ഒരു മിനുക്കുപണിയാണ്.

ലോഹം, നീലക്കല്ലുകൾ, മോണോക്രിസ്റ്റലിൻ സിലിക്കൺ, ഗ്ലാസ്-സെറാമിക്സ്, ലൈറ്റ് ഗൈഡ് ട്യൂബ്, മറ്റ് പ്രതലങ്ങൾ എന്നിവയുടെ കൃത്യമായ മിനുക്കുപണികൾക്കായി SiO2 നാനോ കണികകൾ ഉപയോഗിക്കാറുണ്ട്.നാനോ സിലിക്കൺ ഓക്സൈഡിന്റെ വലുപ്പം 100nm-ൽ താഴെയാണ്, ഇതിന് ഒരു വലിയ പ്രത്യേക ഉപരിതല വിസ്തീർണ്ണവും ഉയർന്ന ഡിസ്പേഴ്സബിലിറ്റിയും പെർമാസബിലിറ്റിയും ഉണ്ട്, അതിനാൽ മിനുക്കിയ വർക്ക്പീസിന്റെ ഉപരിതലത്തിലെ കേടുപാടുകൾ വളരെ ചെറുതാണ്;കൂടാതെ, സിലിക്ക നാനോപാർട്ടിക്കിളിന്റെ കാഠിന്യം സിലിക്കൺ വേഫറുകളുടേതിന് സമാനമാണ്.അതിനാൽ, അർദ്ധചാലക സിലിക്കൺ വേഫറുകൾ മിനുക്കുന്നതിനും ഇത് പലപ്പോഴും ഉപയോഗിക്കുന്നു.

CMP ആപ്ലിക്കേഷനിൽ നാനോ SiO2 പൊടിയുടെ ഗുണങ്ങൾ:

1. പോളിഷിംഗ് എന്നത് SiO2 ന്റെയും മറ്റ് വസ്തുക്കളുടെയും യൂണിഫോം നാനോപാർട്ടിക്കിളുകളുടെ ഉപയോഗമാണ്, ഇത് പ്രോസസ്സ് ചെയ്ത ഭാഗങ്ങൾക്ക് ശാരീരിക നാശമുണ്ടാക്കില്ല, വേഗത വേഗത്തിലാണ്.ഏകീകൃതവും വലിയ കണിക വലിപ്പവുമുള്ള കൊളോയ്ഡൽ സിലിക്ക പോലുള്ള കണങ്ങളുടെ ഉപയോഗം അതിവേഗ പോളിഷിംഗ് ലക്ഷ്യം കൈവരിക്കും.

2. ഇത് ഉപകരണങ്ങളെ നശിപ്പിക്കുന്നില്ല കൂടാതെ ഉയർന്ന സുരക്ഷാ പ്രകടനവുമുണ്ട്.

3. ഉയർന്ന ഫ്ലാറ്റ്നെസ് ഗ്രൈൻഡിംഗ് പ്രോസസ്സിംഗ് നേടുക.

4. മിനുക്കിയ ശേഷം ഉപരിതല പോറലുകൾ ഫലപ്രദമായി കുറയ്ക്കുകയും മിനുക്കിയതിന് ശേഷം ഉപരിതല പരുക്കൻ കുറയ്ക്കുകയും ചെയ്യുക.