CMP dipaké Silicon Dioxide Nanopartikel Nano SiO2 pikeun polishing mékanis kimiawi
CMP dipaké Silicon Dioxide Nanopartikel Nano SiO2 pikeun polishing mékanis kimiawi
spésifikasi:
| Ngaran | Silikon Dioksida / Silika / Silikon oksida Nanopowders |
| Rumus | SiO2 |
| Tipe | Hidrofobik, hidrofilik |
| Ukuran partikel | 20nm |
| Kasucian | 99,8% |
| Penampilan | Bubuk bodas |
| Bungkusan | 20kg / 30kg per kantong / tong |
| Poténsi aplikasi | Lapisan cai-bukti, polishing, karét, keramik, beton, cet, beberesih diri, antibakteri, katalis, binder, lubricity, jsb. |
Katerangan:
Naha bubuk nano silikon dioksida tiasa dianggo pikeun CMP?
Nano-silika boga ongkos rélatif low, sarta dispersibility alus, abrasion mékanis, kakuatan tinggi na adhesion, formasi pilem alus, perméabilitas tinggi, cuaca luhur sarta lalawanan maké, ukuran partikel leutik, karasa.Ogé boga kaunggulan sedeng, viskositas low, adhesion low, sarta beberesih gampang sanggeus polishing.Ku kituna eta mangrupakeun bahan polishing pikeun téhnologi CMP kalawan kinerja alus teuing.
SiO2 nano partikel mindeng dipaké pikeun precision polishing logam, inten biru, silikon monocrystalline, kaca-keramik, tube pituduh lampu na surfaces lianna.Ukuran nano silikon oksida nyaeta handap 100nm, nu boga aréa permukaan husus badag, dispersibility tinggi na perméabilitas, jadi lapisan karuksakan dina beungeut workpiece digosok pisan leutik;Salaku tambahan, karasa nanopartikel silika sami sareng wafer silikon.Ku alatan éta, éta ogé mindeng dipaké pikeun polishing wafers silikon semikonduktor.
Kaunggulan tina bubuk nano SiO2 dina aplikasi CMP:
1. Polishing nyaéta pamakéan nanopartikel seragam of SiO2 jeung bahan séjén, nu moal ngabalukarkeun karuksakan fisik kana bagian olahan, sarta laju gancang.Pamakéan partikel sapertos silika koloid kalayan ukuran partikel anu seragam sareng ageung tiasa ngahontal tujuan polishing-speed tinggi.
2. Teu corrode parabot sarta boga kinerja kaamanan tinggi.
3. Ngahontal flatness tinggi grinding processing.
4. Éféktif ngurangan goresan permukaan sanggeus polishing sarta ngurangan roughness permukaan sanggeus polishing.
Kaayaan Panyimpenan:
Silikon dioksida (SiO2) nanopowders kudu disimpen dina disegel, ulah lampu, tempat garing.Panyimpen suhu kamar ok.
SEM:
Paket FYI:
