Ни өчен кремний диоксиды нано порошогы CMP өчен кулланылырга мөмкин?

Нано-кремний чагыштырмача түбән бәягә ия, һәм яхшы дисперсия, механик абразия, югары көч һәм ябышу, яхшы кино формалаштыру, югары үткәрүчәнлек, югары һава торышы һәм киемгә каршы тору, кечкенә кисәкчәләр зурлыгы, каты.Аның шулай ук ​​уртача, түбән ябышлык, түбән ябышу, полировкадан соң җиңел чистарту өстенлекләре бар.Шулай итеп, ул искиткеч җитештерүчәнлек белән CMP технологиясе өчен бизәүче материал.

SiO2 нано кисәкчәсе еш металл, сапфир, монокристалл кремний, пыяла-керамика, яктылык трубасы һәм башка өслекләрне төгәл бизәү өчен кулланыла.Нано кремний оксидының зурлыгы 100нмнан түбән, аның зур специфик мәйданы, югары дисперсиясе һәм үткәрүчәнлеге бар, шуңа күрә чистартылган эш кисәге өстендәге зыян катламы бик кечкенә;өстәвенә, кремний нанопартикның катылыгы кремний вафаларына охшаган.Шуңа күрә ул шулай ук ​​ярымүткәргеч кремний ваферларын парлау өчен еш кулланыла.

CMP кушымтасында нано SiO2 порошогының өстенлекләре:

1. Оештыру - SiO2 һәм башка материалларның бердәм нанопартикларын куллану, эшкәртелгән өлешләргә физик зыян китермәячәк, һәм тизлек тиз.Бердәм һәм зур кисәкчәләр зурлыгында коллоид кремний кебек кисәкчәләрне куллану югары тизлектәге полировка максатына ирешә ала.

2. equipmentиһазларны бозмый һәм югары куркынычсызлык күрсәткечләренә ия.

3. flatгары яссылыкны тарту эшкәртүенә ирешү.

4. Оештырганнан соң өслек тырмаларын эффектив рәвештә киметегез һәм полировкадан соң өслекнең тупаслыгын киметегез.