Nima uchun silikon dioksid nano kukuni CMP uchun ishlatilishi mumkin?

Nano-kremniy dioksidi nisbatan past narxga, yaxshi dispersiyaga, mexanik aşınmaya, yuqori quvvat va yopishqoqlikka, yaxshi plyonka hosil bo'lishiga, yuqori o'tkazuvchanlikka, yuqori ob-havoga va aşınmaya bardoshliligiga, kichik zarracha hajmiga, qattiqlikka ega.Bundan tashqari, mo''tadil, past viskoziteli, past yopishqoqlik va polishingdan keyin oson tozalash afzalliklariga ega.Shunday qilib, u mukammal ishlashga ega CMP texnologiyasi uchun abraziv materialdir.

SiO2 nano zarrachalari ko'pincha metall, sapfir, monokristalli kremniy, shisha-keramika, yorug'lik yo'riqnomasi trubkasi va boshqa sirtlarni nozik silliqlash uchun ishlatiladi.Nano kremniy oksidining o'lchami 100 nm dan past bo'lib, u katta o'ziga xos sirt maydoniga, yuqori dispersiyaga va o'tkazuvchanlikka ega, shuning uchun jilolangan ish qismi yuzasida zarar qatlami juda kichik;bundan tashqari, kremniy nanopartikulining qattiqligi kremniy gofretlarga o'xshaydi.Shuning uchun u ko'pincha yarimo'tkazgichli silikon gofretlarni parlatish uchun ishlatiladi.

CMP dasturida nano SiO2 kukunining afzalliklari:

1. Polishing - bu qayta ishlangan qismlarga jismoniy zarar etkazmaydigan va tezligi tez bo'lgan SiO2 va boshqa materiallarning bir xil nanopartikullaridan foydalanish.Bir xil va katta zarracha o'lchamiga ega bo'lgan kolloid kremniy kabi zarrachalardan foydalanish yuqori tezlikda parlatish maqsadiga erishishi mumkin.

2. Uskunani korroziyaga olib kelmaydi va yuqori xavfsizlik ko'rsatkichlariga ega.

3. Yuqori tekislikdagi silliqlash ishloviga erishish.

4. Cilalanishdan keyin sirt chizishlarini samarali ravishda kamaytiring va silliqlashdan keyin sirt pürüzlülüğünü kamaytiring.