Aisea e mafai ai ona faʻaogaina le paʻu nano silicon dioxide mo le CMP?

O le Nano-silica e maualalo le tau, ma le faʻasalalau lelei, faʻaogaina o masini, malosi maualuga ma faʻapipiʻi, faʻapipiʻiina ata tifaga, maualuga maualuga, maualuga le tau ma le ofuina o mea, laʻititi laʻititi, maʻaʻa.E iai foʻi le lelei o le feololo, maualalo le viscosity, maualalo le pipii, ma faigofie faʻamamaina pe a uma ona faʻamalo.O le mea lea o se mea faʻalelei mo tekinolosi CMP ma faʻatinoga lelei.

SiO2 nano particle e masani ona faʻaaogaina mo le faʻamaʻi saʻo o uʻamea, safaira, silicon monocrystalline, tioata-ceramics, faʻamalama taiala faʻamau ma isi mea.O le tele o le nano silicon oxide o loʻo i lalo ifo o le 100nm, o loʻo i ai se vaega faʻapitoa tele, faʻasalalau maualuga ma faʻafefe, o le mea lea o le faʻaleagaina o le lapisi i luga o le mea faigaluega faʻailo e matua laʻititi lava;e le gata i lea, o le maaa o le silica nanoparticle e tutusa ma le silicon wafers.O le mea lea, e masani fo'i ona fa'aoga mo le fa'aiila semiconductor wafers silicon.

Le lelei ole nano SiO2 paʻu ile CMP talosaga:

1. Polishing o le faʻaaogaina o nanoparticles toniga o SiO2 ma isi mea, lea o le a le mafua ai le faʻaleagaina o le tino i vaega gaosi, ma o le saoasaoa e vave.O le faʻaaogaina o mea faʻapitoa e pei o le colloidal silica ma le toniga ma le lapopoa o le lapopoa e mafai ona ausia le faʻamoemoega o le faʻapipiʻiina maualuga.

2. E le fa'aleagaina meafaigaluega ma e maualuga le fa'atinoga o le saogalemu.

3. Ausia mafolafola maualuga faiga olo.

4. Faʻaitiitia lelei le mataʻutia o luga pe a uma ona faʻamalo ma faʻaitiitia le faʻafefe o luga pe a maeʻa.