किन सिलिकन डाइअक्साइड नानो पाउडर CMP को लागि प्रयोग गर्न सकिन्छ?

नानो-सिलिका अपेक्षाकृत कम लागत, र राम्रो फैलावट, मेकानिकल घर्षण, उच्च शक्ति र आसंजन, राम्रो फिल्म गठन, उच्च पारगम्यता, उच्च मौसम र पहिरन प्रतिरोध, सानो कण आकार, कठोरता छ।यसमा मध्यम, कम चिपचिपापन, कम टाँसिएको, र पालिश पछि सजिलो सफाईको फाइदाहरू छन्।यसरी यो उत्कृष्ट प्रदर्शनको साथ सीएमपी टेक्नोलोजीको लागि पालिश गर्ने सामग्री हो।

SiO2 न्यानो कण प्रायः धातु, नीलमणि, मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकन, गिलास-सिरेमिक, लाइट गाइड ट्यूब र अन्य सतहहरूको सटीक पालिशको लागि प्रयोग गरिन्छ।न्यानो सिलिकन अक्साइडको आकार 100nm भन्दा कम छ, जसमा ठूलो विशिष्ट सतह क्षेत्र, उच्च फैलावट र पारगम्यता छ, त्यसैले पॉलिश वर्कपीसको सतहमा क्षतिको तह अत्यन्त सानो छ;थप रूपमा, सिलिका न्यानोपार्टिकलको कठोरता सिलिकन वेफर्सको जस्तै छ।यसैले, यो अक्सर अर्धचालक सिलिकन वेफर्स पालिश गर्न को लागी प्रयोग गरिन्छ।

CMP अनुप्रयोगमा नैनो SiO2 पाउडरको फाइदाहरू:

1. पालिसिङ भनेको SiO2 र अन्य सामग्रीको एकसमान न्यानोकणहरूको प्रयोग हो, जसले प्रशोधित भागहरूमा भौतिक क्षति पुर्‍याउँदैन, र गति छिटो हुन्छ।एकसमान र ठूलो कण आकारको साथ कोलोइडल सिलिका जस्ता कणहरूको प्रयोगले उच्च-गति पालिश गर्ने उद्देश्य हासिल गर्न सक्छ।

2. यसले उपकरणहरू क्षय गर्दैन र उच्च सुरक्षा प्रदर्शन गर्दछ।

3. उच्च समतलता पीस प्रक्रिया प्राप्त गर्नुहोस्।

4. प्रभावकारी रूपमा पालिस गरेपछि सतहको खरोंचहरू कम गर्नुहोस् र पालिस गरेपछि सतहको नरमपन कम गर्नुहोस्।