Af hverju er hægt að nota kísildíoxíð nanó duft fyrir CMP?

Nanó-kísil hefur tiltölulega lágan kostnað, góða dreifihæfni, vélrænan núning, mikla styrk og viðloðun, góða filmumyndun, mikla gegndræpi, mikla veður- og slitþol, lítil kornastærð, hörku.Það hefur einnig kosti þess að vera í meðallagi, lítilli seigju, lítilli viðloðun og auðvelt að þrífa eftir fægja.Þannig er það fægiefni fyrir CMP tækni með framúrskarandi frammistöðu.

SiO2 nanóögn er oft notuð til að fægja málm, safír, einkristallaðan sílikon, glerkeramik, ljósleiðararör og önnur yfirborð.Stærð nanó kísiloxíðs er undir 100nm, sem hefur stórt tiltekið yfirborðsflatarmál, mikla dreifileika og gegndræpi, þannig að skemmdalagið á yfirborði fáður vinnustykkisins er mjög lítið;auk þess er hörku kísilnanóagna svipuð og kísilskífa.Þess vegna er það líka oft notað til að fægja hálfleiðara kísilplötur.

Kostir nanó SiO2 dufts í CMP umsókn:

1. Fæging er notkun samræmdra nanóagna af SiO2 og öðrum efnum, sem mun ekki valda líkamlegum skemmdum á unnum hlutum og hraðinn er hratt.Notkun agna eins og kísilkvoða með einsleitri og stórri kornastærð getur náð tilgangi háhraða fægja.

2. Það tærir ekki búnað og hefur mikla öryggisafköst.

3. Náðu malavinnslu með mikilli flatneskju.

4. Dragðu úr yfirborðs rispum á áhrifaríkan hátt eftir fæging og minnkaðu yfirborðsgrófleika eftir fæging.